场效应管转移特性曲线:栅极电压对漏极电流的控制称为转移特性,反映两者关系的曲线称为转移特性曲线。N沟结型场效应管的转移特性曲线如图。当栅极电压取出不同的电压时,漏极电流随之变化。当栅极电压=0时,ID值为场效应管饱和漏极电流IDSS;当漏极电流=0时,无锡全自动场效应管厂家,栅极电压的值为结型场效应管夹断UQ。输出特性曲线:当 Ugs确定时,反映 ID与 Uds的关系曲线是输出特征曲线,又称漏极特性曲线。按图示可划分为三个区域:饱和区、击穿区和非饱和区。当起放大作用时,无锡全自动场效应管厂家,无锡全自动场效应管厂家,应该在饱和区内工作。请注意,这里的“饱和区”对应普通三极管的“放放区”。场效应管转换速率较高,高频特性好。无锡全自动场效应管厂家
与双极型晶体管相比,场效应管具有如下特点。(1)场效应管是电压控制器件,它通过VGS(栅源电压)来控制ID(漏极电流);(2)场效应管的控制输入端电流极小,因此它的输入电阻(107~1012Ω)很大。(3)它是利用多数载流子导电,因此它的温度稳定性较好;(4)它组成的放大电路的电压放大系数要小于三极管组成放大电路的电压放大系数;(5)场效应管的抗辐射能力强;(6)由于它不存在杂乱运动的电子扩散引起的散粒噪声,所以噪声低。苏州P沟耗尽型场效应管厂家场效应管在源极金属与衬底连在一起时,源极和漏极可以互换使用。
场效应管以N沟道为例,它是在P型硅衬底上制成两个高掺杂浓度的源扩散区N+和漏扩散区N+,再分别引出源极S和漏极D。源极与衬底在内部连通,二者总保持等电位。当漏接电源正极,源极接电源负极并使VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS逐渐升高,受栅极正电压的吸引,在两个扩散区之间就感应出带负电的少数载流子,形成从漏极到源极的N型沟道,当VGS大于管子的开启电压VTN(一般约为+2V)时,N沟道管开始导通,形成漏极电流ID。
场效应晶体管的沟道是掺杂n型半导体或p型半导体的结果。在增强型场效应晶体管中,漏极和源极可以掺杂与沟道相反的类型,或者掺杂与耗尽型场效应晶体管类似的类型。场效应晶体管也可由沟道和栅极之间的绝缘方法来区分。场效应晶体管的类型包括:结型场效应管(结型场效应晶体管)使用反向偏置的pn结将栅极与主体电极分开MOSFET (金属氧化物半导体场效应晶体管)将绝缘体(通常SiO2)置于漏极和主体电极之间。MNOS 金属-氮化物-氧化物-半导体晶体管将氮化物-氧化物层绝缘体置于栅极和主体电极之间。DGMOSFET ( 双栅极MOSFET ),一种具有两个绝缘栅极的场效应晶体管。增强型场效应管特点:当Vgs=0时Id(漏极电流)=0。
MOS场效应管也被称为金属氧化物半导体场效应管(MetalOxideSemiconductor FieldEffect Transistor, MOSFET)。它一般有耗尽型和增强型两种。增强型MOS场效应管可分为NPN型PNP型。NPN型通常称为N沟道型,PNP型也叫P沟道型。对于N沟道的场效应管其源极和漏极接在N型半导体上,同样对于P沟道的场效应管其源极和漏极则接在P型半导体上。场效应管的输出电流是由输入的电压(或称电场)控制,可以认为输入电流极小或没有输入电流,这使得该器件有很高的输入阻抗,同时这也是我们称之为场效应管的原因。场效应管当栅压为零时有较大漏极电流的称为耗尽型。湖州P沟耗尽型场效应管型号
场效应晶体管的栅极在允许条件下,比较好接入保护二极管。无锡全自动场效应管厂家
场效应管电阻法测好坏:测电阻法是用万用表测量场效应管的源极与漏极、栅极与源极、栅极与漏极、栅极G1与栅极G2之间的电阻值同场效应管手册标明的电阻值是否相符去判别管的好坏。具体方法:首先将万用表置于R×10或R×100档,测量源极S与漏极D之间的电阻,通常在几十欧到几千欧范围(在手册中可知,各种不同型号的管,其电阻值是各不相同的),如果测得阻值大于正常值,可能是由于内部接触不良;如果测得阻值是无穷大,可能是内部断极。然后把万用表置于R×10k档,再测栅极G1与G2之间、栅极与源极、栅极与漏极之间的电阻值,当测得其各项电阻值均为无穷大,则说明管是正常的;若测得上述各阻值太小或为通路,则说明管是坏的。要注意,若两个栅极在管内断极,可用元件代换法进行检测。无锡全自动场效应管厂家
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