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在氮化铝陶瓷中的应用，氮化铝为六方纤锌矿结构，具有良好的抗热震性、绝缘体、热膨胀系数低和力学性能，理论热导率达320W·m-1·K-1，即使在特殊气氛中也有优异的耐高温性能，是理想的大规模集成电路基板和封装材料。
氮化铝陶瓷有以下出色的导热性能：(1)热导率高，满足器件散热需求；(2)耐热性好，满足功率器件高温(大于200°C)应用需求；(3)热膨胀系数匹配，与芯片材料热膨胀系数匹配，降低封装热应力；(4)介电常数小，高频特性好，降低器件信号传输时间，提高信号传输速率；(5)机械强度高，满足器件封装与应用过程中力学性能要求；(6)耐腐蚀性好，能够耐受强酸、强碱、沸水、有机溶液等侵蚀；(7)结构致密，满足电子器件气密封装需求。
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用氮化铝陶瓷做成的陶瓷基板有以下应用价值：一，是高导热氮化铝陶瓷基片的主要原料。二，因其热导率高，膨胀系数低，强度高，耐高温，耐化学腐蚀，电阻率高，介电损耗小是大规模集成电路散热和封装的主要材料。三，高频陶瓷pcb电压件，大规模超大集成电路基片四，高频通讯行业高电压，低热膨胀系数、低介电损耗的可靠材料。以上就是氮化铝陶瓷基板材料的介绍以及氮化铝陶瓷基板的应用价值，氮化铝陶瓷基板在很多领域散热的作用是其他基材所不能替代的。深圳高精度氮化铝陶瓷杆专注氮化铝陶瓷结构零件。
氮化铝陶瓷相较其他陶瓷材料，与硅相匹配的热膨胀系数，加上很好的热导性，更有利于应用于电子产业。根据《AlN陶瓷热导率及抗弯强度影响因素研究的新进展》的研究中提到，AlN因其热膨胀系数与Si匹配度高而被关注，而传统的基板材料如Al2O3由于其热导率低，其值约为AlN陶瓷的1/5且线膨胀系数与Si不匹配，已经不能够满足实际需求。BeO与SiC陶瓷基板的热导率也相对较高，但BeO毒性高，SiC绝缘性不好。而AlN作为一种新型高导热陶瓷材料，具有热膨胀系数与Si接近、散热性能优良、无毒等特性，有望成为替代电子工业用陶瓷基板Al2O3、SiC和BeO的较好材料。
氮化铝是一种六方纤锌矿结构的共价键化合物，室温强度高、热膨胀系数小、抗熔融金属侵蚀的能力强、介电性能良好，这些得天独厚的优点使其成为高导热材料而引起国内外的普遍关注。作为高性能的介电陶瓷，氮化铝可以取代碳化硅，甚至部分取代氧化铝.
氮化铝陶瓷结构件的优点：(1)机械强度高，硬度接近刚玉。热压氮化硅的室温抗弯强度可高达780-980MPa，有的甚至更高，可与合金钢相比，强度可保持在1200℃以下。(2)机械自润滑，表面摩擦系数小，耐磨，弹性模量大，耐高温。(3)热膨胀系数小，导热系数大，抗热震性好。(4)密度低，比重小。(5)耐腐蚀、抗氧化。(6)电绝缘性好。 鑫鼎精密陶瓷专业加工隔热氮化铝片。
氮化铝分子式为Si3N4,属于共价键结合的化合物，氮化铝陶瓷属多晶材料，晶体结构属六方晶系，一般分为α、β两种晶向，均由[SiN4]4-四面体构成，其中β-Si3N4对称性较高，摩尔体积较小，在温度上是热力学稳定相，而α-Si3N4在动力学上较容易生成，高温（1400℃～1800℃）时，α相会发生相变，成为β型，这种相变是不可逆的，故α相有利于烧结。
外观不同晶相得氮化铝外观是不同的，α-Si3N4呈白色或灰白色疏松羊毛状或针状体，β-Si3N4则颜色较深，呈致密的颗粒状多面体或短棱柱体，氮化铝晶须是透明或半透明的，氮化铝陶瓷的外观呈灰色、蓝灰到灰黑色，因密度、相比例的不同而异，也有因添加剂呈其他色泽。氮化铝陶瓷表面经抛光后，有金属光泽。 找专业加工氮化铝陶瓷零件。深圳高精度氮化铝陶瓷杆
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氮化铝陶瓷是一种综合性能优良的新型陶瓷材料，具有优良的热传导性、可靠的电绝缘性、低的介电常数和介电损耗、无毒以及与硅相匹配的热膨胀系数等一系列优良特性，被认为是新一代高集程度半导体基片和电子器件封装的理想材料，受到了国内外研究者的重视。理论上，氮化铝的热导率接近于氧化铍的热导率，但由于氧化铍有剧毒，在工业生产中逐渐被停止使用。与其它几种陶瓷材料相比较，氮化铝陶瓷综合性能优良，非常适用于半导体基片和结构封装材料，在电子工业中的应用潜力非常巨大。另外，氮化铝还耐高温，耐腐蚀，不为多种熔融金属和融盐所浸润，因此，可用作高级耐火材料和坩埚材料，也可用作防腐蚀涂层，如腐蚀性物质的容器和处理器的里衬等。氮化铝粉末还可作为添加剂加入各种金属或非金属中来改善这些材料的性能。高纯度的氮化铝陶瓷呈透明状，可用作电子光学器件。氮化铝还具有优良的耐磨耗性能，可用作研磨材料和耐磨损零件。氮化铝陶瓷具有多方面的优越性能，应用前景十分广阔.深圳定制异形氮化铝陶瓷柱塞
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