[VIP第1年] 指数:3
有一种二极管叫做SONIC二极管，其反向回复时间较为长，约～µs，软度因子在。在制造中除了使用平面结终止结构，玻璃钝化并有硅橡胶保护外，还使用了从硅片背面开展深扩散磷和控制轴向寿命抑制因素，使迅速二极管的反向恢复电流衰减较慢，具反向“软恢复”特点，防范在高频应用时在硬关断过程中产生过高的反向尖峰电压，维护了开关器件及其二极管自身。该二极管在整个工作温度范围内性能安定，并且对于温度的变化正向电压降的变化可以忽视不计。该二极管是为高频应用设计的，在高频应用时安定确实。新的迅速软恢复二极管——SONIC二极管系列克服了这些缺陷，它们的优点为：1．并联二极管工作时正向电压降Vf与温度无关；2．阻断电压平稳，漏电流比掺金和铂的小；3．迅速软恢复二极管在高温下反向漏电流从25℃到125℃比掺铂FRED少50%。SONIC二极管使用磷深扩散和轴向寿命抑制因素，电压从600V至1800V，如图3所示。在硼中受控的轴向寿命抑制因素用来支配区域1中空穴的发射效率。区域2所示的软N区为软恢复提供了额外电荷。空穴的较低的发射效率使得器件的正向电压降对温度不太敏感，这有利二极管并联工作，并且在高温时开关损耗很小。运用电子辐照作为外加的规范寿命抑制因素。MUR3040CT二极管的主要参数。湖南快恢复二极管MUR1620CTR
我们都知道在选择快恢复二极管时，主要看它的正向导通压降、反向耐压、反向漏电流等。但我们却很少知道其在不同电流、不同反向电压、不同环境温度下的关系是怎样的，在电路设计中知道这些关系对选择合适的快恢复二极管显得极为重要，尤其是在功率电路中。在快恢复二极管两端加正向偏置电压时，其内部电场区域变窄，可以有较大的正向扩散电流通过PN结。只有当正向电压达到某一数值（这一数值称为“门槛电压”，锗管约为，硅管约为）以后，快恢复二极管才能真正导通。但快恢复二极管的导通压降是恒定不变的吗？它与正向扩散电流又存在什么样的关系？通过下图1的测试电路在常温下对型号为快恢复二极管进行导通电流与导通压降的关系测试，可得到如图2所示的曲线关系：正向导通压降与导通电流成正比，其浮动压差为。从轻载导通电流到额定导通电流的压差虽为，但对于功率快恢复二极管来说它影响效率也影响快恢复二极管的温升，所以在价格条件允许下，尽量选择导通压降小、额定工作电流较实际电流高一倍的快恢复二极管。湖南快恢复二极管MUR1620CTRMUR1640CS是什么类型的管子？
行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种：玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）。二极管的GPP工艺结构，其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化，冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体，无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构，其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结，然后在200度左右温度进行固化，保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）特性对比玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工艺由于结构的不同，当有外力产生时，冷热冲击，OJ工艺结构的二极管，由于保护胶和硅片不贴合，会产生漏气，导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管，可靠性很高，在150度的HTRB时，表现仍然很出色；而OJ工艺的产品能够承受100度左右的HTRB。
二极管质量的好坏取决于芯片工艺。目前，行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种：玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）。二极管的GPP工艺结构，其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化，冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体，无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构，其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结，然后在200度左右温度进行固化，保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）特性对比玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工艺由于结构的不同，当有外力产生时，冷热冲击，OJ工艺结构的二极管，由于保护胶和硅片不贴合，会产生漏气，导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管，可靠性很高，在150度的HTRB时，表现仍然很出色；而OJ工艺的产品能够承受100度左右的HTRMUR3040CT是快恢复二极管吗？
20A以下的快恢复及超快恢复二极管大都使用TO-220封装形式。从内部构造看，可分为单管、对管（亦称双管）两种。对管内部涵盖两只快恢复二极管，根据两只二极管接法的不同，又有共阴对管、共阳对管之分。图2(a)是C20-04型快恢复二极管（单管）的外形及内部构造。(b)图和(c)图分别是C92-02型（共阴对管）、MUR1680A型（共阳对管）超快恢复二极管的外形与结构。它们均使用TO-220塑料封装，主要技术指标见表1。几十安的快恢复二极管一般使用TO-3P金属壳封装。更大容量（几百安～几千安）的管子则使用螺栓型或平板型封装形式。2．检测方法1）测量反向恢复时间测量电路如图3。由直流电流源供规定的IF，脉冲发生器经过隔直电容器C加脉冲信号，运用电子示波器观察到的trr值，即是从I=0的日子到IR=Irr日子所经历的时间。设器件内部的反向恢电荷为Qrr，有关系式trr≈2Qrr/IRM由式()可知，当IRM为一定时，反向回复电荷愈小，反向回复时间就愈短。2）常规检测方式在业余条件下，运用万用表能检测快回复、超快恢复二极管的单向导电性，以及内部有无开路、短路故障，并能测出正向导通压降。若配以兆欧表，还能测量反向击穿电压。实例：测量一只超快恢复二极管，其主要参数为：trr=35ns。MUR1660CTR是什么类型的管子？上海快恢复二极管MUR3060PT
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确保模块的出力。2)DBC基板：它是在高温下将氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)基片与铜箔直接双面键合而成，它有着优良的导热性、绝缘性和易焊性，并有与硅材质较相近的热线性膨胀系数(硅为4．2×10-6／℃，DBC为5．6×10-6／℃)，因而可以与硅芯片直接焊接，从而简化模块焊接工艺和下降热阻。同时，DBC基板可按功率电路单元要求刻蚀出各式各样的图形，以当作主电路端子和支配端子的焊接支架，并将铜底板和电力半导体芯片相互电气绝缘，使模块有着有效值为2．5kV以上的绝缘耐压。3)电力半导体芯片：超快恢复二极管(FRED)和晶闸管(SCR)芯片的PN结是玻璃钝化保护，并在模块制作过程中再涂有RTV硅橡胶，并灌封有弹性硅凝胶和环氧树脂，这种多层保护使电力半导体器件芯片的性能安定确实。半导体芯片直接焊在DBC基板上，而芯片正面都焊有经表面处置的钼片或直接用铝丝键协作为主电极的引出线，而部分连线是通过DBC板的刻蚀图形来实现的。根据三相整流桥电路共阳和共阴的连接特色，FRED芯片使用三片是正烧(即芯片正面是负极、反面是正极)和三片是反烧(即芯片正面是正极、反面是负极)，并运用DBC基板的刻蚀图形，使焊接简化。同时，所有主电极的引出端子都焊在DBC基板上。湖南快恢复二极管MUR1620CTR
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