[VIP第1年] 指数:3
管质量的好坏取决于芯片工艺。目前，行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种：玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）。二极管的GPP工艺结构，其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化，冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体，无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构，其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结，然后在200度左右温度进行固化，保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）特性对比玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工艺由于结构的不同，当有外力产生时，冷热冲击，OJ工艺结构的二极管，由于保护胶和硅片不贴合，会产生漏气，导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管，可靠性很高，在150度的HTRB时，表现仍然很出色；而OJ工艺的产品能够承受100度左右的HTRB。整流快恢复二极管缓冲吸收电路有哪些？湖北快恢复二极管MUR3040CS
这种铜底板尚存在一定弧度的焊成品，当模块压装在散热器上时，能保证它们之间的充分接触，有利于热传导，从而使模块的接触热阻降低，有利于模块的出力和可靠性。(3)由于FRED模块工作于高频(20kHZ以上)，因此，必须在结构设计要充分考虑消除寄生电感等问题，为此，在电磁等原理基础上，充分考虑三个主电极形状、布局和走向，同时对键合铝丝长短和走向也作了合适安排。以减少模块内部的分布电感，确保二单元的分布电感一致，从而解决模块的噪音和发热问题，提高装置效率。3.主要技术参数图3是FRED模块导通和关断期间的电流和电压波形图，它显示了FRED器件从正向导通到反向恢复的全过程。其主要关断特性参数为：反向恢复时间trr=ta+tb（ta为少数载流子存储时间，tb为少数载流子复合时间）；软度因子S=(表示器件反向恢复曲线的软度)；反向恢复峰值电流：；反向恢复电荷。而导通参数为：反向重复峰值电压URRM.；正向平均电流IF(AV)；正向峰值电压UFM；正向均方根电流IF(RMS)和正向浪涌电流IFSM等。图2（a）预弯后的铜底板（b）铜底板与DBC基板焊接后的合格品图3FRED导通和关断期间的电流和电压波形图这里需要注意的是：trr随所加反向电压UR的增加而增加，例如600V的FRED。湖北快恢复二极管MUR3040CSMUR3060CT二极管的主要参数。
快恢复二极管是极有发展前景的电力、电子半导体器件。性能特点1）反向恢复时间反向恢复时间trr的概念是：电流通过零点由正向变换到规定低值的时间间距。它是衡量高频续流及整流器件性能的主要技术指标。IF为正向电流，IRM为反向回复电流。Irr为反向回复电流，当t≤t0时，正向电流I=IF。当t＞t0时，由于整流器件上的正向电压忽然变为反向电压，因此正向电流很快下降，在t=t1时刻，I=0。然后整流器件上流过反向电流IR，并且IR日渐增大；在t=t2日子达到反向回复电流IRM值。此后受正向电压的效用，反向电流日趋减少，并在t=t3日子达到规定值Irr。从t2到t3的反向恢复过程与电容器放电过程有相像之处。2）快回复、超快恢复二极管的结构特点快恢复二极管的内部构造与平常二极管不同，它是在P型、N型硅材质中间增加了基区I，组成P-I-N硅片。由于基区很薄，反向回复电荷很小，减少了trr值，还下降了瞬态正向压降，使管子能经受很高的反向工作电压。快回复二极管的反向恢复时间一般为几百纳秒，正向压降约为，正向电流是几安培至几千安培，反向峰值电压可达几百到几千伏。超快恢复二极管的反向恢复电荷更进一步减少，使其trr可低至几十纳秒。
二极管质量的好坏取决于芯片工艺。目前，行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种：玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）。二极管的GPP工艺结构，其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化，冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体，无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构，其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结，然后在200度左右温度进行固化，保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）特性对比玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工艺由于结构的不同，当有外力产生时，冷热冲击，OJ工艺结构的二极管，由于保护胶和硅片不贴合，会产生漏气，导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管，可靠性很高，在150度的HTRB时，表现仍然很出色；而OJ工艺的产品能够承受100度左右的HT快恢复二极管的型号有哪些？
确保模块的出力。2)DBC基板：它是在高温下将氧化铝(Al2O3)或氮化铝(AlN)基片与铜箔直接双面键合而成，它有着优良的导热性、绝缘性和易焊性，并有与硅材质较相近的热线性膨胀系数(硅为4．2×10-6／℃，DBC为5．6×10-6／℃)，因而可以与硅芯片直接焊接，从而简化模块焊接工艺和下降热阻。同时，DBC基板可按功率电路单元要求刻蚀出各式各样的图形，以当作主电路端子和支配端子的焊接支架，并将铜底板和电力半导体芯片相互电气绝缘，使模块有着有效值为2．5kV以上的绝缘耐压。3)电力半导体芯片：超快恢复二极管(FRED)和晶闸管(SCR)芯片的PN结是玻璃钝化保护，并在模块制作过程中再涂有RTV硅橡胶，并灌封有弹性硅凝胶和环氧树脂，这种多层保护使电力半导体器件芯片的性能安定确实。半导体芯片直接焊在DBC基板上，而芯片正面都焊有经表面处置的钼片或直接用铝丝键协作为主电极的引出线，而部分连线是通过DBC板的刻蚀图形来实现的。根据三相整流桥电路共阳和共阴的连接特色，FRED芯片使用三片是正烧(即芯片正面是负极、反面是正极)和三片是反烧(即芯片正面是正极、反面是负极)，并运用DBC基板的刻蚀图形，使焊接简化。同时，所有主电极的引出端子都焊在DBC基板上。MUR1040CT是快恢复二极管吗？重庆快恢复二极管MURF860
MURF2020CT是什么类型的管子？湖北快恢复二极管MUR3040CS
电解用整流器的输出功率极大，每个整流臂往往由十几个乃至数十个整流元件并联组成，均流问题十分突出。关于电流不平衡的产生原因和解决措施，可参看本站有关电力电子快恢复二极管串、并联技术的文章，此处提示结构设计中的一些注意点。1)当并联快恢复二极管数很多，在结构上形成分支并联回路时，可以将快恢复二极管按正向压降接近程度分级分组，在可能流过较大电流的支路里，装配正向压降稍大的元件组。2)在快恢复二极管开通前后阳极-阴极间电压较高、开通后电流上升率较大时，常选用开通时间尽量一致的快恢复二极管。但由于快恢复二极管参数可选择的自由度太小，为了经济和维修更换方便，常和电路补偿方法结合使用。采用补偿后能使元件开通时间的分散度在5～6µs左右较合适。补偿方法可以在每个快恢复二极管支路中串入均流电抗器，或者将整流变压器阀侧线圈多分几组，减少每个线圈支路中的快恢复二极管数。湖北快恢复二极管MUR3040CS
文章来源地址: http://dzyqj.chanpin818.com/erjiguan/khfejg/deta_21678353.html
免责声明： 本页面所展现的信息及其他相关推荐信息，均来源于其对应的用户，本网对此不承担任何保证责任。如涉及作品内容、 版权和其他问题，请及时与本网联系，我们将核实后进行删除，本网站对此声明具有最终解释权。
