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2）快恢复、超快恢复二极管的结构特点快恢复二极管的内部结构与普通二极管不同，它是在P型、N型硅材料中间增加了基区I，构成P-I-N硅片。由于基区很薄，反向恢复电荷很小，大大减小了trr值，还降低了瞬态正向压降，使管子能承受很高的反向工作电压。快恢复二极管的反向恢复时间一般为几百纳秒，正向压降约为，正向电流是几安培至几千安培，反向峰值电压可达几百到几千伏。超快恢复二极管的反向恢复电荷进一步减小，使其trr可低至几十纳秒。20A以下的快恢复及超快恢复二极管大多采用TO-220封装形式。从内部结构看，可分成单管、对管（亦称双管）两种。对管内部包含两只快恢复二极管，根据两只二极管接法的不同，又有共阴对管、共阳对管之分。图2(a)是C20-04型快恢复二极管（单管）的外形及内部结构。(b)图和(c)图分别是C92-02型（共阴对管）、MUR1680A型（共阳对管）超快恢复二极管的外形与构造。它们均采用TO-220塑料封装，主要技术指标见表1。几十安的快恢复二极管一般采用TO-3P金属壳封装。更大容量（几百安～几千安）的管子则采用螺栓型或平板型封装形式。2．检测方法（1）测量反向恢复时间测量电路如图3。由直流电流源供规定的IF，脉冲发生器经过隔直电容器C加脉冲信号。MUR3020CS是什么类型的管子？湖北快恢复二极管MURB2060CT
二极管质量的好坏取决于芯片工艺。目前，行业内使用的二极管芯片工艺主要有两种：玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）。二极管的GPP工艺结构，其芯片P-N结是在钝化玻璃的保护之下。玻璃是将玻璃粉采用800度左右的烧结熔化，冷却后形成玻璃层。这玻璃层和芯片熔为一体，无法用机械的方法分开。而二极管的OJ工艺结构，其芯片P-N结是在涂胶的保护之下。采用涂胶保护结，然后在200度左右温度进行固化，保护P-N结获得电压。OJ的保护胶是覆盖在P-N结的表面。玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）特性对比玻璃钝化（GPP）和酸洗（OJ）芯片工艺由于结构的不同，当有外力产生时，冷热冲击，OJ工艺结构的二极管，由于保护胶和硅片不贴合，会产生漏气，导致器件出现一定比率的失效。GPP工艺结构的TVS二极管，可靠性很高，重庆快恢复二极管SF168CT快恢复二极管在PFC电路中的作用！
由于环境的影响，特别是在湿度大或带粉尘的环境下，往往会使触头毁损，另外接触器接通和断开时产生电弧，导致接触器寿命缩短而毁坏，从而严重影响变频器的安定精确工作。为了化解上述存在的疑问，用FRED替代平常整流二极管，使用晶闸管替代机器接触器，制成的“三相FRED整流桥开关模块”，这种模块用以变频器后，能使变频器性能提高、体积缩小、重量减轻、工作安定确实。“三相整流二极管整流桥开关模块”(型号为MDST)是由六个平常整流二极管和一个晶闸管构成，它已普遍用以VVVT、SMPS、UPS、逆变焊机以及伺服电机驱动放大器等具直流环节的变频设备，并已获取很大成效。用超快恢复二极管(FRED)替代一般而言整流管所组成的“三相FRED整流桥开关模块”(型号为MFST)亦可用于上述各种电压型变频器，但可大幅度下降变频器噪声达15dB，这一效应将直接影响到变频器的EMI滤波电路内电容器和电感器的设计，并使它们的大小缩小，从而下降设备的成本和缩小设备的体积。
电力电子器件的缓冲电路(snubbercircuit)又称吸收电路，它是电力电子器件的一种重要的保护电路，不仅用于半控型器件的保护，而且在全控型器件(如GTR、GTO、功率MOSFET和IGBT等)的应用技术中起着重要的作用。晶闸管开通时，为了防止过大的电流上升率而烧坏器件，往往在主电路中串入一个扼流电感，以限制过大的di/dt，串联电感及其配件组成了开通缓冲电路，或称串联缓冲电路。晶闸管关断时，电源电压突加在管子上，为了抑制瞬时过电压和过大的电压上升率，以防止晶闸管内部流过过大的结电容电流而误触发，需要在晶闸管的两端并联一个RC网络，构成关断缓冲电路，或称并联缓冲电路。IGBT的缓冲电路功能更侧重于开关过程中过电压的吸收与抑制，这是由于IGBT的工作频率可以高达30~50kHz;因此很小的电路电感就可能引起颇大的LdiC/dt，从而产生过电压，危及IGBT的安全。PWM逆变器中IGBT在关断和开通中的uCE和iC波形。在iC下降过程中IGBT上出现了过电压，其值为电源电压UCC和LdiC/dt两者的叠加。IGBT缓冲电路中的二极管必须是快恢复的二极管，电容必须是高频、损耗小，频率特性好的薄膜电容。这样才能取得好的吸收效果MUR2060CT二极管的主要参数。
快恢复二极管(简称FRD)是一种具有开关特性好、反向恢复时间短特点的半导体二极管，主要应用于开关电源、PWM脉宽调制器、变频器等电子电路中，作为高频整流二极管、续流二极管或阻尼二极管使用。 快恢复二极管的内部结构与普通PN结二极管不同，它属于PIN结型二极管，即在P型硅材料与N型硅材料中间增加了基区I，构成PIN硅片。因基区很薄，反向恢复电荷很小，所以快恢复二极管的反向恢复时间较短，正向压降较低，反向击穿电压(耐压值)较高。采用TO–220或TO–3P封装的大功率快恢复二极管，有单管和双管之分。双管的管脚引出方式又分为共阳和共阴。MURF3060CT是什么类型的管子？湖北快恢复二极管MURB2060CT
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快恢复二极管模块工艺结构和特点图1超快恢复二极管模块内部电路连接图本模块是由二个或二个以上的FRED芯片按一定的电路(见图1)连成后共同封装在一个PPS(加有40%的玻璃纤维)外壳内制成，模块分绝缘型(模块铜底板对各主要电极的绝缘耐压Uiso≥)和非绝缘型二种，其特点(1)采用高、低温氢(H2)、氮(N2)混合气体保护的隧道炉和热板炉二次焊接工艺，使焊接温度、焊接时间和传送带速度之间有较好的匹配，并精确控制升温速度、恒温时同和冷却速度，使焊层牢固，几乎没有空洞，从而降低了模块热阻、保证模块出力，根据模块电流的大小，采用直接焊接或铝丝超声键合等方法引出电极，用RTV橡胶、及组份弹性硅凝胶和环氧树脂等三重保护，又加采用玻璃钝化保护的、不同结构的进口FRED芯片，使模块防潮、防震，工作稳定。(2)铜底板预弯技术：模块采用了高导热、高绝缘、机械强度高和易焊接，且热膨胀系数很接近硅芯片的氮化铝陶瓷覆铜板(ALNDBC板)，使焊接后各材料內应力低，热阻小，并避免了芯片因应力而破裂。为了解决铜底板与DBC板间的焊接问题，除采用铜银合金外。并在焊接前对铜底板进行一定弧度的预弯。如图2(a)，焊后如图2(b)。湖北快恢复二极管MURB2060CT
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