[VIP第1年] 指数:3
具体实施方式下面结合附图和具体实施例对本发明进行详细的描述。本发明提出一种基于负压调节的雪崩光电二极管偏压调节电路，包括像素外偏置电压产生模块和像素内偏压调节模块，如图1所示，像素外偏置电压产生模块包括一运算放大器op1、二运算放大器op2、一pmos管mp1、二pmos管mp2、三pmos管mp3，武汉快恢复二极管企业、四pmos管mp4、一电阻r1，武汉快恢复二极管企业、二电阻r2、一电流源i1和二电流源i2，一运算放大器op1的正相输入端连接基准电压vref，武汉快恢复二极管企业，其反相输入端连接二pmos管mp2的源极和一电流源i1，其输出端连接一pmos管mp1的栅极；一pmos管mp1的源极连接电源电压，其漏极连接二pmos管mp2的栅极并通过一电阻r1后连接负电源电压vne；二运算放大器op2的正相输入端接地，其反相输入端连接四pmos管mp4的源极和二电流源i2，其输出端连接三pmos管mp3的栅极；三pmos管mp3的源极连接电源电压，其漏极连接四pmos管mp4的栅极并通过二电阻r2后连接负电源电压vne；二pmos管mp2和四pmos管mp4的漏极连接负电源电压vne。二pmos管mp2和四pmos管mp4用于产生一运算放大器op1和二运算放大器op2的反相输入端信号，一电流源i1和二电流源i2用于为二pmos管mp2和四pmos管mp4提供偏置电流。乐山开关二极管原装现货。武汉快恢复二极管企业
其中一pmos管、六pmos管、七pmos管和八pmos管的宽长比之比为1:1:2:4；六pmos管、七pmos管和八pmos管的栅极均连接一pmos管的栅极，其源极均连接电源电压，其漏极分别通过一开关、二开关和三开关后连接所述一电流镜单元的输出端。具体的，所述二电流镜单元包括九pmos管，九pmos管的栅极连接三pmos管的栅极，其源极连接电源电压，其漏极连接所述二电流镜单元的输出端。具体的，所述一运算放大器的输出端和一pmos管的栅极之间还设置有一电平位移电路，所述二运算放大器的输出端和三pmos管的栅极之间还设置有二电平位移电路。具体的，所述一运算放大器和二运算放大器均采用折叠式共源共栅运放结构，所述一运算放大器包括十pmos管、十一pmos管、十二pmos管、十三pmos管、十四pmos管、十五pmos管、十六pmos管、十七pmos管、十八pmos管、十九pmos管、一nmos管、二nmos管、三nmos管、四nmos管、五nmos管、六nmos管、七nmos管、八nmos管和四电阻，其中十八pmos管和十九pmos管作为所述一运算放大器的输入对管，其衬底均连接电源电压；六nmos管的栅极连接七nmos管和八nmos管的栅极以及五nmos管的栅极和漏极并连接基准电流，其源极连接八nmos管的漏极。肇庆快恢复二极管厂家强茂肖特基二极管原装现货。
在这种情况下，半导体层可以包含非晶硅。尽管未示出，但是栅极线和数据线彼此交叉以限定像素区域，并且形成切换tft以与栅极线和数据线连接。切换tft与作为驱动元件的tfttr连接。此外，还可以形成电力线，所述电力线可以形成为与栅极线和数据线中的一者平行并间隔开；和用于在一帧中保持tfttr的栅极电极的电压的存储电容器。形成有钝化层350以覆盖tfttr，钝化层350包括暴露tfttr的漏电极342的漏极接触孔352。在各像素中单独形成有电极220，电极220通过漏极接触孔352与tfttr的漏电极342连接。电极220可以为阳极，并且可以由具有相对高的功函数的导电材料形成。例如，电极220可以由透明导电材料例如ito或izo形成。可以在电极220下方形成反射电极或反射层。例如，反射电极或反射层可以由铝-钯-铜(apc)合金形成。在钝化层350上形成有堤层360以覆盖电极220的边缘。即，堤层360被定位在像素的边界并且暴露像素中的电极220的中心。堤层360可以省略。在电极220上形成有有机发光层290。参照图5，有机发光层290包括发光部分250，发光部分250包括有eml240；和第二发光部分270，第二发光部分270包括有第二eml260。例如。
oledd1包括电极120、面向电极120的第二电极130、和在电极120与第二电极130之间的有机发光层140。有机发光层140包括包含具有发射波长范围的延迟荧光掺杂剂152和具有第二发射波长范围的磷光掺杂剂154的eml150。电极120包含具有相对高的功函数的导电材料并用作阳极。例如，电极120可以包含透明导电材料例如铟锡氧化物(ito)或铟锌氧化物(izo)，但不限于此。当oledd1为顶部发射型时，可以在电极120下方形成反射电极或反射层。例如，反射电极或反射层可以由铝-钯-铜(apc)合金形成。第二电极130包含具有相对低的功函数的导电材料并用作阴极。例如，第二电极130可以包含镁(mg)或铝-镁合金(al-mg)，但是不限于此。有机发光层140包括定位在电极120上方并包含延迟荧光掺杂剂152和磷光掺杂剂154的eml150。延迟荧光掺杂剂具有发射波长范围，磷光掺杂剂具有与发射波长范围不同的第二发射波长范围。磷光掺杂剂的第二比较大发射波长可以大于延迟荧光掺杂剂的比较大发射波长。例如，发射波长范围可以为绿色波长范围，第二发射波长范围可以为红色波长范围。延迟荧光掺杂剂152可以由式1表示。[式1]在式1中。东莞强茂二极管代理商公司。
基质的重量百分比为约50％至80％。相对于基质，延迟荧光掺杂剂152的重量百分比可以为约20％至70％，磷光掺杂剂154的重量百分比可以为约％至2％。基质可以由式7-1或式7-2表示。[式7-1][式7-2]在式7-1中，x为o、s或nr，以及r为c6-c30芳基。在式7-1和式7-2中，y为o或s。在式7-1和式7-2中，r1至r15各自地选自氢、c1-c20烷基、c1-c20烷氧基、c1至c20烷基甲硅烷基、c6-c30芳基、c5-c30杂芳基和胺。例如，基质可以选自式8。[式8]有机发光层140还包括在电极120与eml150之间的空穴传输层(htl)164、在电极120与htl164之间的空穴注入层(hil)162、在eml150与第二电极130之间的电子传输层(etl)174和在etl174与第二电极130之间的电子注入层(eil)176。hil162、htl164、etl174和eil176中的至少一者可以省略。此外，有机发光层140还可以包括在htl164与eml150之间的电子阻挡层(ebl)166和在eml150与etl174之间的空穴阻挡层(hbl)172。ebl166和hbl172中的至少一者可以省略。oledd1包含发射绿色光的延迟荧光掺杂剂152和具有比延迟荧光掺杂剂152更小的重量百分比并发射红色光的磷光掺杂剂154，使得发射绿色波长范围的光和红色波长范围的光二者。即，在oledd1中。乐山二极管一级代理商。武汉进口二极管代理商
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栅极绝缘层324可以被图案化成具有与栅极电极330相同的形状。在栅极电极330上形成有由绝缘材料形成的层间绝缘层332。层间绝缘层332可以由无机绝缘材料(例如硅氧化物或硅氮化物)或有机绝缘材料(例如苯并环丁烯或光压克力(photo-acryl))形成。层间绝缘层332包括暴露半导体层322的两侧的接触孔334和第二接触孔336。接触孔334和第二接触孔336被定位在栅极电极330的两侧以与栅极电极330间隔开。接触孔334和第二接触孔336形成为穿过栅极绝缘层324。或者，当栅极绝缘层324被图案化成具有与栅极电极330相同的形状时，接触孔334和第二接触孔336形成为只穿过层间绝缘层332。在层间绝缘层332上形成有由导电材料(例如金属)形成的源电极340和漏电极342。源电极340和漏电极342相对于栅极电极330彼此间隔开，并且分别通过接触孔334和第二接触孔336接触半导体层322的两侧。半导体层322、栅极电极330、源电极340和漏电极342构成tfttr。tfttr用作驱动元件。在tfttr中，栅极电极330、源电极340和漏电极342被定位在半导体层322上方。即，tfttr具有共面结构。或者，在tfttr中，栅极电极可以被定位在半导体层下方，并且源电极和漏电极可以被定位在半导体层上方，使得tfttr可以具有倒置交错结构。武汉快恢复二极管企业
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