[VIP第1年] 指数:3
在背面减薄之后以及形成所述集电区之前，还包括进行一导电类型重掺杂注入并进行退火在所述漂移区的底部表面形成有由一导电类重掺杂区组成的电场中止层，后续形成的所述集电区位于所述电场中止层的背面。进一步的改进是，所述电荷存储层的掺杂浓度至少大于所述漂移区的掺杂浓度的一个数量级。进一步的改进是，所述igbt器件为n型器件，一导电类型为n型，第二导电类型为p型；或者，所述igbt器件为p型器件，一导电类型为p型，第二导电类型为n型。本发明具有如下有益技术效果：1、本发明对器件单元结构中的栅极结构的屏蔽结构做了特别的设置，在栅极结构的两侧设置有形成于沟槽中的屏蔽电极结构即第二屏蔽电极结构，再加上形成于栅极结构的沟槽底部的一屏蔽电极结构，一起作用栅极结构的屏蔽电极，这种屏蔽电极结构由于是通过沟槽填充形成，有利于缩小器件的沟槽的步进，较小的沟槽步进能从而降低igbt器件的输入电容、输出电容和逆导电容，提高器件的开关速度；2、本发明同时还将一屏蔽电极结构对应的一屏蔽多晶硅和第二屏蔽电极结构对应的第二屏蔽多晶硅都通过接触孔连接到金属源极，实现和发射区的短接，这样能降低栅电容，增强器件短路电流的能力，提高器件的抗冲击能力。
附图说明图1为本发明结构示意图；图2为本发明限压电路结构示意图。图中：100限压电路、110一齐纳二极管、120第二齐纳二极管、200控制电路、300限流电路。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明提供一种igbt驱动电路，将分立器件实现的限压电路集成在芯片中，节省了面积，降低了成本，将限压电路与igbt的驱动电路结合在一个功能块里进一步节省了面积和成本，同时借助igbt的驱动电路中的电阻限制了限压支路的电流，降低了功耗，保护了驱动芯片的安全，请参阅图1，包括限压电路100、控制电路200和限流电路300；请参阅图1-2，限压电路100包括：一齐纳二极管110；第二齐纳二极管120与一齐纳二极管110串联，两个齐纳二极管的选择由驱动输出限压的大小决定；请再次参阅图1，控制电路200包括限压电路控制输入lp、电阻r2、下拉电阻r3和控制管n3，限压电路控制输入lp与电阻r2串联，电阻r2与控制管n3相串联。
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